Nanoporous Silicon Nitride Film TEM Window Grids

Nanoporous SiN TEM Windows feature a range of different pore sizes (20-200nm) on a square silicon nitride membrane. This enables observation in the TEM without background noise. SiN film thicknesses of 15, 20, 30, 50, 100 or 200nm available.

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SiN TEM Membranes, nanoporous, 0,5mm window, 20nm film, 10/pk E76042-42

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Eigenschaften:

Plasmareinigung möglich - Entfernung von organischen Verunreinigungen
Hochhitzebeständig - bis zu 1000°C und mehr
Mechanische Robustheit - halten auch anspruchsvollen experimentellen Bedingungen stand
Flach, isolierend und hydrophob - LPCVD, „low-stress“ SiN (<250MPa), nicht-kristallines SiN mit <0,5nm Rauigkeit
Chemisch inert - beständig gegenüber Säuren (mit Ausnahme von HF), Basen und Lösungsmitteln
Resistent gegen hohe Strahlstromstärken
Kohlenstofffrei und ultra-rein
Gute Röntgen- und e-Strahl-Transmission
Kompatibel – passen in normale 3mm TEM-Probenhalter, achteckig (daher auch gut mit der Pinzette aufnehmbar)
Homogen – <0,5nm Variation in der Filmdicke nicht nur im einzelnen Grid sondern über eine komplette Produktions-Log hinweg

Anwendungsgebiete:

Environmental TEM (dynamische Prozesse bei hohen Temperaturen)
Nanopartikel-Untersuchung
Charakterisierung von Materialien aus den Bereichen Nano, Halbleiter, optische Kristalle, funktionale Materialien u.v.m.
(Quantitative) Kohlenstoff-Analyse (z.B. Fotolack, Polymere, Nahrung, Öl, Kraftstoffe)
Kristallzüchtung
Röntgen-Mikroskopie and Röntgen-Spektroskopie
Dünnfilm-Forschung
In-situ-Charakterisierung von chemischen Reaktionen und Temper-Effekten
Beobachtung biologischer Systeme durch gute Biokompatibilität: Wachstum von Zellen oder anderen biologischen Einheiten direkt auf dem Film
Charakterisierung von Kolloiden, Aerogelen, organischen Materialien, Halbleitern, Kristallen und Nanopartikeln

Empfohlene Anwendunge

	SiN Film-Dicke	Produktbeispiele und Fenstergröße
Höchstauflösung	5nm	E76042-43, 1 Quadrat (0,025mm) E76042-44, 8 Quadrate (0,05mm), 1 Slot (0,05x0,1mm) E76042-45, 2 Slots (0,05x1,5mm)*
Hohe Auflösung	10nm	E76042-46, 8 Quadrate (0,1mm), 1 Slot (0,1x0,35mm) E76042-47, 8 Quadrate (0,25mm), 1 Slot (0,25x0,5mm) YSG010Z, 1 Quadrat (0,1mm) YSG015Z, 1 Quadrat (0,15mm) YSG025Z, 1 Quadrat (0,25mm) YSG050Z, 1 Quadrat (0,5mm) YSAR010Z, 9 Quadrate (0,1mm)
Routine	20nm	YSG001AT, 1 Quadrat (0,01mm) E76042-48, 8 Quadrate (0,1mm), 1 Slot (0,1x0,35mm) E76042-49, 1 Quadrat (0,5mm) E76042-50, 9 Quadrate (0,1mm)
Herausfordernde Bedingungen	50nm	E76042-53, 1 Quadrat (0,1mm) E76042-52, 1 Quadrat (0,5mm) E76042-51, 1 Quadrat (1mm) YSTA015C, 2 Slots (0,1x1.5mm) E76042-50, 9 Quadrate (0,1mm)
Materialien in Lösung & Cryo-TEM	Microporös, nanoporös	E76042-41, 1 Quadrat (0,5mm) E76042-40, 1 Quadrat (0,5mm) YSME050B, 1 Quadrat (0,5mm), 2,8μm Löcher YSME050C, 1 Quadrat (0,5mm), 2,0μm Löcher YSME050C10, 1 Quadrat (0,5mm), 10μm Löcher YSME050E05, 1 Quadrat (0,5mm), 5μm Löcher YSNP-TE025B, 1 Quadrat (0,25mm), 20-200nm Löcher, 50nm SiN YSNP-TE010D, 1 Quadrat (0,1mm), 20-200nm Löcher, 200nm SiN u.v.m.

* beschichtet mit 1nm ultrareinem Kohlenstoff, um Aufladung zu minimieren

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Film Type	Nanoporous SiN film
Material	Silicon Nitride

Nanoporous Silicon Nitride Film TEM Window Grids

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